正社員
半導体製造装置に新たな価値を生み出す【開発】特許取得実績多数
- 給与 【月給】25万円〜60万円 + 諸手当 + 賞与年2回(前年度実績4ヵ月分) ※経験・能力を考慮し、優遇いたします。 ※試用期間3ヵ月あり(期間中待遇変更なし)。 昇給・賞与 【昇給】年1回 【賞与】年2回(但し業績による)
- 千葉県
\半導体製造工程の「薄膜」プロセス開発/当社の製品に新たな付加価値を生み出すための重要な仕事◆転勤一切なし
当社が製造するスパッタリング装置やプラズマCVD装置など
半導体製造装置を用いた薄膜プロセスの開発。
▼顧客との打ち合わせ
▼薄膜プロセスの提案
▼試作・分析・評価
などを基本に、特許出願なども担っていただきます。
■仕事の面白さ
▼特注品開発だから面白い!
当社の製品はお客様ごとの一品一様品なので
毎回が新たな発見と挑戦!
▼価値創造性に富んだ仕事
薄膜プロセス開発を通して当社製品の
付加価値向上を実現する仕事だから面白い!
▼最初から主担当!
ニーズおよびシーズ双方の
開発を主担当として担えるのでヤリガイ◎
■幅広い産業分野に貢献できる!
当社のお客様は、半導体以外にも半導体薄膜技術を必要とする
・飲料分野
・食品分野
・医療分野
・化粧品分野
など、多岐にわたります。
誰も手掛けていないようなニーズや技術に触れながら、
さまざまな分野に貢献できることは大きなよろこび。
自社起点のシーズ開発などもあり、大きなヤリガイを感じられます。
応募方法
「【ここまでお読みいただき、ありがとうございました】
「マイナビ転職」応募フォームよりご応募ください。(下記の「この求人に応募する」ボタンをクリック)ご質問も受け付けております。お気軽にお問い合わせください。
※応募の秘密は厳守いたします。
※ご応募いただく個人情報は採用業務のみに利用し、他の目的での利用や第三者へ譲渡・開示することはありません。
会社情報
代表者
稲住 仁
事業内容
プラズマCVD装置、スパッタリング装置、EB蒸着装置等、半導体製造装置を主とした製造
本社所在地
埼玉県所沢市林1-203-4
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