正社員
プロセス改善・開発/ソニーG 半導体中核企業/世界シェア50%|【山形】
- 420万円~900万円程度
- 山形県鶴岡市
【仕事内容】
CMOSイメージセンサーのウェーハプロセス(リソグラフィ―、エッチング加工、薄膜形成、イオン注入、熱処理)の品質、コスト、生産性を考慮した量産プロセス技術開発や装置立上げ、条件出し、歩留改善、欠陥解析、プロセス課題への対応に従事いただきます。
半導体製造装置ならびに各種周辺システムを操作し、実際のウェーハ製法を設定し、その安定性や改善を進めます。またAIや画像センシング技術を取り入れることで製造装置の改善や品質の予測などプロセス制御技術の開発も行う。
【募集背景】
CMOSイメージセンサーの次世代プロセス開発の強化、生産規模拡大に伴い、山形エリアに限らず、同社全体としてプロセスエンジニアの体制強化を検討しているため、増員での採用を進めております。
【想定されるキャリアパス】
半導体プロセス技術に対するスキルはもちろん、設備技術、デバイス技術、システム技術などのスキルが身に付きます。またデバイス部署、他拠点、メーカーと幅広い連携で業務を進めていくためのコミュニケーション力、リーダーシップについても身に付けることができます。
※業務内容については、将来的に会社の定める業務(出向含む)へ変更となる場合があります。
事業内容・業種
半導体
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